莱科斯电站便携式EL测试仪为了提高晶体硅太阳能电池的效率，通常需要减少太阳电池正表面的反射，还需要对晶体硅表面进行钝化处理，以降低表面缺陷对于少数载流子的复合作用。

另一方面，硅表面有很多悬挂键，莱科斯电站便携式EL测试仪对于N型发射区的非平衡载流子具有很强的吸引力，使得少数载流子发生复合作用，从而减少电流。因此需要使用一些原子或分子将这些表面的悬挂键饱和。实验发现，含氢的SiNx膜对于硅表面具有很强的钝化作用，减少了表面不饱和的悬挂键，减少了表面能级。

综合来看，SiNx膜被制备在硅的表面起到两个最用，莱科斯电站便携式EL测试仪其一是减少表面对可见光的反射；其二，表面钝化作用。硅的折射率为3.8，如果直接将光滑的硅表面放置在折射率为1.0的空气中，其对光的反射率可达到30%左右。人们使用表面的织构化降低了一部分反射，但是还是很难将反射率降得很低，尤其是对多晶硅，使用各向同性的酸腐蚀液，如果腐蚀过深，会影响到PN结的漏电流，因此其对表面反射降低的效果不明显。因此，考虑在硅表面与空气之间插一层折射率适中的透光介质膜，以降低表面的反射，在工业化应用中，SiNx膜被选择作为硅表面的减反射膜，SiNx膜的折射率随着x值的不同，可以从1.9变到2.3左右，这样比较适合于在3.8的硅和1.0的空气中进行可见光的减反射设计，是一种较为优良的减反射膜。

PECVD技术的分类

用来制备SiNx膜的方法有很多种，包括：化学气相沉积法莱科斯电站便携式EL测试仪（CVD法）、等离子增强化学气相沉积（PECVD法）、低压化学气相沉积法（LPCVD法）。在目前产业上常用的是PECVD法。

PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型：

间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，莱科斯电站便携式EL测试仪等离子体不直接打到样品表面，样品或其支撑体也不是电极的一部分。

直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。莱科斯电站便携式EL测试仪

为了提高晶体硅太阳能电池的效率，通常需要减少太阳电池正表面的反射，还需要对晶体硅表面进行钝化处理，以降低表面缺陷对于少数载流子的复合作用。硅的折射率为3.8，如果直接将光滑的硅表面放置在折射率为1.0的空气中，其对光的反射率可达到30%左右。人们使用表面的织构化降低了一部分反射，但是还是很难将反射率降得很低，尤其是对多晶硅，使用各向同性的酸腐蚀液，如果腐蚀过深，会影响到PN结的漏电流，因此其对表面反射降低的效果不明显。因此，考虑在硅表面与空气之间插一层折射率适中的透光介质膜，莱科斯电站便携式EL测试仪以降低表面的反射，在工业化应用中，SiNx膜被选择作为硅表面的减反射膜，SiNx膜的折射率随着x值的不同，可以从1.9变到2.3左右，这样比较适合于在3.8的硅和1.0的空气中进行可见光的减反射设计，是一种较为优良的减反射膜。

另一方面，硅表面有很多悬挂键，对于N型发射区的非平衡载流子具有很强的吸引力，使得少数载流子发生复合作用，从而减少电流。因此需要使用一些原子或分子将这些表面的悬挂键饱和。实验发现，含氢的SiNx膜对于硅表面具有很强的钝化作用，减少了表面不饱和的悬挂键，减少了表面能级。

综合来看，SiNx膜被制备在硅的表面起到两个最用，莱科斯电站便携式EL测试仪其一是减少表面对可见光的反射；其二，表面钝化作用。

PECVD技术的分类

用来制备SiNx膜的方法有很多种，包括：化学气相沉积法（CVD法）、等离子增强化学气相沉积（PECVD法）、低压化学气相沉积法（LPCVD法）。在目前产业上常用的是PECVD法。

PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型：

直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是莱科斯电站便携式EL测试仪电极的一部分。

间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，等离子体不直接打到样品表面，样品或其支撑体也不是电极的一部分。

如果按照PECVD系统所使用的频率范围，又可将其分成以下几类：

■0Hz：直流间接法——OTB公司

■440kHz：Semco公司的板式直接法

■460kHz：Centrotherm公司管式直接法

■13.6MHz：Semco公司和MVSystem公司的板式直接法系统

■40KHz：Centrotherm公司管式直接法PECVD和AppliedMaterial公司的磁控溅射系统

■250kHz：岛津公司的板式直接法系统

■2450MHz：Roth&Rau公司的板式间接法系统。

莱科斯设备是致力于太阳能检测及自动化设备的科技企业:生产供应 EL检测仪,EL测试仪,组件EL测试仪,便携式EL检测仪,太阳能组件测试仪,太阳能电池片测试仪，电池片EL检测仪，组件EL检测仪，便携式组件EL检测仪，电站EL测试仪，服务于电站自动化及光伏生产企业。